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用簡潔的流程圖概括臭氧分子受破壞的過程介紹(用簡潔的流程圖概括臭氧分子受破壞的過程詳細(xì)情況如何)

2022-08-19 23:10:25 高端訪談來源：

導(dǎo)讀想必現(xiàn)在有很多小伙伴對于用簡潔的流程圖概括臭氧分子受破壞的過程方面的知識都比較想要了解，那么今天小好小編就為大家收集了一些關(guān)于用

想必現(xiàn)在有很多小伙伴對于用簡潔的流程圖概括臭氧分子受破壞的過程方面的知識都比較想要了解，那么今天小好小編就為大家收集了一些關(guān)于用簡潔的流程圖概括臭氧分子受破壞的過程方面的知識分享給大家，希望大家會喜歡哦。

1、人類過多地使用氯氟烴類化學(xué)物質(zhì)（用CFCs表示）是臭氧層被破壞的主要原因。氯氟烴是一種人造化學(xué)物質(zhì)。在第二次世界大戰(zhàn)后，尤其是進(jìn)入20世紀(jì)60年代以后，氯氟烴大量用作氣溶膠、制冷劑、發(fā)泡劑、化工溶劑等。

2、另外，哈龍類物質(zhì)（用于滅火器）、氮氧化物也會造成臭氧層的損耗。

3、擴(kuò)展資料

4、芝想士回合答，版電權(quán)必究，進(jìn)未而經(jīng)許可，不得轉(zhuǎn)載

5、臭氧層的保護(hù)

6、發(fā)展中國家必須于2005年之前將氟氯烴的排放量凍結(jié)在1995－1997年的平均數(shù)量上，而發(fā)達(dá)國家已于1996年間基本停止使用這些消耗臭氧層的主要物質(zhì)。

7、因此，必須積極尋找新的制冷工質(zhì)來代替氯氟烴類物質(zhì)，世界各國已經(jīng)進(jìn)行了許多新的嘗試，主要是應(yīng)用兩類制冷劑和確定三個發(fā)展方向。

8、兩類制冷劑為混合制冷劑和單一制冷劑，三個發(fā)展方向是使用HCFC，HFC及天然工質(zhì)。HFC是氫氟碳物質(zhì)，其典型代表是單一工質(zhì)R134a和混合工質(zhì)R407c，這種物質(zhì)的臭氧破壞指數(shù)ODP值為0。

9、HCFC是氫氯氟碳物質(zhì)，其典型代表是R22，其ODP值為0.05。天然工質(zhì)的典型代表為氨、CO2和碳?xì)漕愇镔|(zhì)，如R600等。

10、以加義流隊(duì)壓例八整段周青族。

本文到此結(jié)束，希望對大家有所幫助。

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