對于光刻機是什么這個問題感興趣的朋友應(yīng)該很多，這個也是目前大家比較關(guān)注的問題，那么下面小好小編就收集了一些光刻機是什么相關(guān)的知識回答，來分享給大家希望能夠幫助到你哦。

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2、光刻機（MaskAligner)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

3、光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動：

4、1、手動：指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn)，對準(zhǔn)精度可想而知不高了；

5、2、半自動：指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧；

6、3、自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

本文到此結(jié)束，希望對大家有所幫助。

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